专利名称：防散射X-射线滤线栅器件及其制造方法专利类型：发明专利发明人：J·J·肖,K·M·迪罗歇申请号：CN201110190671.5申请日：20110628公开号：CN102389320A公开日：20120328
摘要：一种制造防散射X-射线滤线栅器件(10)的方法以及由该方法制造的X-射线滤线栅器件(10)包括：提供由基本上不吸收X-射线的材料(16)制成的衬底(14)，在衬底(14)中包括通道(18)；在通道(18)的侧壁(20)上施加(32)同样基本上不吸收X-射线的材料(34)的层，其中该层包含第二材料(34)；然后在通道(18)的一部分中施加(44)显著吸收X-射线的材料(42)，以便定义多个X-射线吸收元件(12)。就具体实施例描述了本发明，并且意识到，除了那些明确叙述的内容之外，等效物、备选和修改都是可能的并且在随附权利要求的范围内。
申请人：通用电气公司
地址：美国纽约州
国籍：US
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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