专利名称：一种高分散铜负载二氧化钛纳米片的制备方法及其
应用
专利类型：发明专利
发明人：陈立勇,于丰洋,段春迎申请号：CN202011106687.9申请日：20201016公开号：CN112439416A公开日：20210305
摘要：本发明属于多功能杂化纳米材料合成技术领域，涉及一种高分散铜负载二氧化钛纳米片的制备方法及其应用。本发明是通过水热合成法制备二氧化钛纳米片，随后在其上负载
Cu‑MOF(HKUST‑1)，并在还原气氛下，经过热处理制备高分散铜负载二氧化钛纳米片，并将其用于光催化甲醇降解制备氢气。结果表明：通过MOF固定的铜簇可以高分散的负载于二氧化钛纳米片的表面，有效的提高了二氧化钛光降解甲醇产氢的效率。本发明的方法简便易行，反应条件温和，制备的二氧化钛纳米片具有较高的光催化产氢速率。
申请人：大连理工大学
地址：116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
国籍：CN
代理机构：大连理工大学专利中心
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容