专利名称：石墨烯导电薄膜的制备方法专利类型：发明专利发明人：王红丽
申请号：CN201711020445.6申请日：20171027公开号：CN107799232A公开日：20180313
摘要：本发明公开了一种石墨烯导电薄膜的制备方法，属于导电薄膜生产技术领域。所述方法包括以下步骤石墨烯导电薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：A．沉积银金属层：在陶瓷基板上沉积5‑15nm的金属银层；所述沉积银金属层的方法为磁控溅射法；B．沉积石墨烯层：采用CVD法沉积石墨烯薄膜层，所述石墨烯薄膜层的厚度为40～90μm；C．清洗、干燥：将步骤B得到的半成品进行降温处理，待温度降至室温后，将石墨烯薄膜层进行清洗，去除表面银金属层，然后进行干燥即可。本发明具有生产成本低，效率高的优点。
申请人：成都天航智虹知识产权运营管理有限公司
地址：610094 四川省成都市自由贸易试验区成都高新区天府二街368号2栋1单元12楼1201号
国籍：CN
代理机构：成都天嘉专利事务所(普通合伙)
代理人：史姣姣
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