专利名称：靶材组件的处理方法专利类型：发明专利
发明人：姚力军,潘杰,相原俊夫,王学泽,刘霞申请号：CN201611270763.3申请日：20161230公开号：CN108265274A公开日：20180710
摘要：一种靶材组件的处理方法，包括：提供靶材组件，所述靶材组件包括背板和靶材，所述靶材位于所述背板上，所述靶材组件包括核心区和处理区，所述核心区与所述处理区邻接，所述处理区包围所述核心区，所述靶材位于所述核心区和部分所述处理区内；对所述处理区的部分靶材和部分背板进行喷砂处理，在所述部分靶材和部分背板的表面形成粗糙层；对所述粗糙层进行熔射处理，在所述粗糙层上形成膜层。所述方法处理后的靶材组件应用到磁控溅射较长时间时，即使靶材原子在所述膜层上形成堆积，所述靶材原子也不会脱落，成膜质量好，靶材利用率高，从而显著延长靶材的使用寿命。
申请人：宁波江丰电子材料股份有限公司
地址：315400 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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