专利名称：一种镀膜设备沉积腔室和镀膜设备专利类型：实用新型专利发明人：田保峡,闻益,曲士座申请号：CN201821809037.9申请日：20181102公开号：CN209555351U公开日：20191029
摘要：本实用新型公开了一种镀膜设备沉积腔室，在所述底板上设置有N排非金属蒸发源，每排非金属蒸发源包括M个沿第一预设方向设置的非金属蒸发源；在第一预设方向上，所述N排非金属中至少包括一排非金属蒸发源的首端、末端的非金属蒸发源较其他排的首端、末端错位预设距离；其中，M为大于等于8小于等于15的整数，N为大于等于2的整数；每排中的相邻两个非金属蒸发源之间的间距为一定值。本方案，使得通过镀膜设备沉积腔室在衬底表面形成的CIGS膜厚度均匀，性能良好，从而使得形成的包括CIGS膜的太阳能电池具有较高的发电效率，有效满足用电需求。
申请人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
地址：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街7号院6号楼3001室
国籍：CN
代理机构：北京国昊天诚知识产权代理有限公司
代理人：许志勇
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