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非球面光学元器件抛光工艺[发明专利]

2021-07-26 来源:年旅网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:非球面光学元器件抛光工艺专利类型:发明专利发明人:吴勇波,冯铭,王腾蛟申请号:CN201910522298.5申请日:20190617公开号:CN110227984A公开日:20190913

摘要:本发明公开了一种非球面光学元器件抛光工艺,属于光学元器件加工领域。本发明的非球面光学元器件抛光工艺的实施过程如下:设置磁流变液以及磁场;所述磁流变液在所述磁场的作用下形成环形抛光工具;所述环形抛光工具与待抛光的加工工件接触并产生相对运动,以对待抛光的加工表面进行抛光。本发明的非球面光学元器件抛光工艺可以高效的对非球面光学元器件表面进行抛光处理。

申请人:南方科技大学

地址:518055 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号

国籍:CN

代理机构:广州嘉权专利商标事务所有限公司

代理人:谢岳鹏

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