一种批量生产小尺寸晶圆的晶圆载台结构

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201210311332.2 （22）申请日 2012.08.29

（71）申请人 沈阳拓荆科技有限公司

地址 110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1号

（10）申请公布号 CN103628035A

（43）申请公布日 2014.03.12

（72）发明人 凌复华;王丽丹;吴凤丽

（74）专利代理机构 沈阳科苑专利商标代理有限公司

代理人 白振宇

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

一种批量生产小尺寸晶圆的晶圆载台结构

（57）摘要

本发明涉及半导体薄膜沉积设备，具体地

说是一种批量生产小尺寸晶圆的晶圆载台结构，包括上下设置的金属圆盘和陶瓷圆盘，金属圆盘上表面有若干圆柱凸台，圆柱凸台的直径略小于或等于晶圆直径，相邻凸台的距离大于晶圆直径，金属圆盘的下表面一般为平面，也可以有其他特征。陶瓷圆盘上有若干通孔，通孔位置与金属圆盘上的圆柱凸台位置相吻合，通孔直径略大于圆柱凸台直径。若通孔直径略小于或等于晶圆

直径，通孔上端面需要有直径略大于晶圆的晶圆沟槽；若通孔直径略大于晶圆直径，则不需要晶圆沟槽。本发明可以将等离子体的密度集中到反应区域，提供沉积速率，同时杜绝边缘放电现象发生，改善等离子体分布，降低边缘效应，改善成膜均匀性。

法律状态

法律状态公告日2014-03-12 2014-04-09 2016-04-13

法律状态信息

公开

实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态

公开

实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

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说明书

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