专利名称：一种可调节抛光装置专利类型：发明专利发明人：晋正正
申请号：CN201710336420.0申请日：20170513公开号：CN107097126A公开日：20170829
摘要：本发明公开了一种可调节抛光装置，属于机械加工设备领域。该发明包括固定支架、抛光支架、抛光电机、抛光带、转动液压缸、承料支架、承料辊和升降液压缸，抛光支架一侧两端分别铰连接于固定支架上侧，转动液压缸倾斜设置在抛光支架另一侧和固定支架之间，抛光带水平卷绕在抛光滚轮和调节滚轮上，承料支架上侧水平均匀转动连接有多根承料辊，承料辊上方两侧分别水平设置有限位挡板，限位挡板下方两侧分别水平设置有与平移导向杆相适配的导向套筒。本发明结构设计合理，能够快速高效的将工件根据需要便捷准确的进行抛光加工，提高了工件加工的效率和质量，满足生产使用的需要。
申请人：晋正正
地址：314500 浙江省嘉兴市桐乡市梧桐街道康泾塘西33号2幢302室
国籍：CN
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